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    未來(lái)哪些主要行業(yè)會(huì)增加對(duì)潔凈廠房的需求?

    發(fā)布時(shí)間:2022-01-25人氣:1100

    隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,發(fā)達(dá)國(guó)家實(shí)施了再工業(yè)化、數(shù)字化和智能化技術(shù)戰(zhàn)略,深刻改變了制造業(yè)的生產(chǎn)方式和產(chǎn)業(yè)形態(tài)。加上新材料、新能源等技術(shù)的重大突破,將引發(fā)新一輪的技術(shù)和產(chǎn)業(yè)變革。特別是在高新技術(shù)產(chǎn)品的加工生產(chǎn)過(guò)程中,如何滿(mǎn)足精密加工、產(chǎn)品小型化、高純度(高質(zhì)量)和高可靠性等要求。對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的潔凈度水平提出了更高的要求。另一方面,隨著現(xiàn)代生物醫(yī)學(xué)的發(fā)展,對(duì)無(wú)塵車(chē)間控制細(xì)菌數(shù)量和微生物污染的要求不斷提高,以保證醫(yī)療、生物研究、食品生產(chǎn)等行業(yè)不被微生物污染或感染。目前,清潔技術(shù)已廣泛應(yīng)用于各行各業(yè)或其他需要防止顆粒污染和微生物污染的環(huán)境控制。由于行業(yè)之間差距較大,要求不同,環(huán)境控制的內(nèi)容和指標(biāo)也不同。


    以下是常見(jiàn)行業(yè)要求的摘要,如下所示:

    1、半導(dǎo)體、芯片、集成電路生產(chǎn)的無(wú)塵車(chē)間要求

    國(guó)家大力支持半導(dǎo)體的發(fā)展,半導(dǎo)體材料的提純是半導(dǎo)體器件發(fā)展的重要基礎(chǔ)。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求,為了獲得高純度的硅材料,原料和中間體的高純度以及生產(chǎn)環(huán)境的清潔度已經(jīng)成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素之一。


    突出問(wèn)題。

    芯片從上世紀(jì)50年代發(fā)展至今,大致經(jīng)歷了三大發(fā)展階段:在美國(guó)發(fā)明起源-在日本加速發(fā)展-在韓國(guó)與中國(guó)臺(tái)灣成熟分化。前兩次半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移原因分別是:日本在PCDRAM市場(chǎng)獲得美國(guó)認(rèn)可;韓國(guó)成為PCDRAM新的主要生產(chǎn)者和中國(guó)臺(tái)灣在晶圓代工、芯片封測(cè)領(lǐng)域成為代工龍頭。如今中國(guó)已成為全球半導(dǎo)體最大的市場(chǎng),在強(qiáng)大的需求和有力的政策推動(dòng)下,芯片行業(yè)正迎來(lái)第三次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移,向大陸轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已不可阻擋。集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān),而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個(gè)數(shù)有關(guān)。因此,集成電路的高速發(fā)展,不僅對(duì)空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求,而且也需進(jìn)一步控制粒子數(shù);同時(shí),對(duì)于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。



    2、精密機(jī)械和精細(xì)化工產(chǎn)品生產(chǎn)的要求

    隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)加工對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的含塵濃度提出極高的要求,這就需要其生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈等級(jí)和控制生產(chǎn)過(guò)程所需各類(lèi)相關(guān)物質(zhì)的供應(yīng)質(zhì)量。例如,在膠片生產(chǎn)中,膠片若受到了塵埃的污染,將會(huì)發(fā)生乳劑氧化,活性減弱,pH值變化等,從而影響膠片的感光性能。

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    3、醫(yī)藥產(chǎn)品生產(chǎn)的無(wú)塵車(chē)間要求

    藥品是用于預(yù)防、治療疾病和恢復(fù)、調(diào)整機(jī)體功能的特殊商品,它的質(zhì)量直接關(guān)系到人的健康和安危。如果一些藥品在制造過(guò)程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染,可能會(huì)產(chǎn)生預(yù)料不到的疾病和危害。

    4、醫(yī)療應(yīng)用及醫(yī)學(xué)研究中的無(wú)塵車(chē)間要求

    以集成電路為代表的工業(yè)環(huán)境控制中多采用工業(yè)潔凈技術(shù)和工業(yè)無(wú)塵車(chē)間;而在醫(yī)學(xué)中,多采用生物無(wú)塵車(chē)間進(jìn)行微生物污染控制。在生物無(wú)塵車(chē)間里,這些微生物多由細(xì)菌和真菌組成,粒徑尺寸在0.2um以上,常見(jiàn)的細(xì)菌粒徑都在0.5um以上,并且多數(shù)依附在其他物質(zhì)微粒上。生物污染渠道不僅通過(guò)空氣,還與人體、與操作人員的服裝有關(guān)。

    在醫(yī)學(xué)研究領(lǐng)域中,生物實(shí)驗(yàn)室、無(wú)菌實(shí)驗(yàn)室以及供生物化學(xué)、醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)用的“特殊飼養(yǎng)動(dòng)物”飼養(yǎng)室也都十分需要控制微生物污染。

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    5、化妝品、食品生產(chǎn)的無(wú)塵車(chē)間要求

    現(xiàn)代化妝品中大多含有蛋白質(zhì)、維生素、氨基酸、植物萃取液等,這些組分為細(xì)菌、霉菌等微生物的滋生、繁殖提供了有利條件。因此,微生物的污染是影響化妝品質(zhì)量的重要因素?;瘖y品生產(chǎn)過(guò)程中使用的無(wú)塵車(chē)間的控制對(duì)象主要是塵粒、微生物,與藥品生產(chǎn)用的無(wú)塵車(chē)間要求類(lèi)似。目前,化妝品生產(chǎn)用無(wú)塵車(chē)間的空氣潔凈度等級(jí)可參照藥品的GMP規(guī)范進(jìn)行。

    在食品工廠的生產(chǎn)過(guò)程中,設(shè)施的嚴(yán)格管理是確保食品的安全衛(wèi)生,防止發(fā)生由于病原大腸菌、沙門(mén)氏菌造成的食品中毒或飲料中混入霉菌等的重要手段。20世紀(jì)90年代至今,一些發(fā)達(dá)國(guó)家引入HACCP(危害分析重點(diǎn)控制點(diǎn))系統(tǒng),制定了利用衛(wèi)生管理生產(chǎn)過(guò)程的食品生產(chǎn)承認(rèn)制度。

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